申請日2015.07.24

　　公開(公告)日2016.03.09

　　IPC分類號C02F9/04; C02F103/16

　　摘要

　　本實用新型公開了一種小型電鍍廠廢水處理系統，其特征在于：包括調節池、反應池、斜板沉淀池、中間水池、濃縮池和清水池，調節池、反應池、斜板沉淀池、中間水池依次相連，斜板沉淀池輸出端還與濃縮池連接，中間水池通過砂濾器與清水池連接，濃縮池還與板框壓濾模塊連接，濃縮池、板框壓濾模塊與調節池連接。本實用新型結構簡單、工作穩定、成本較低、去污水效率高、處理后的污水可重復利用，便于推廣使用。

　　權利要求書

　　1.一種小型電鍍廠廢水處理系統，其特征在于：包括調節池、反應池、斜板沉淀池、中間水池、濃縮池和清水池，所述調節池、反應池、斜板沉淀池、中間水池依次相連，所述斜板沉淀池輸出端還與濃縮池連接，所述中間水池通過砂濾器與清水池連接，所述濃縮池還與板框壓濾模塊連接，所述濃縮池、板框壓濾模塊與調節池連接。

　　2.按照權利要求1所述的一種小型電鍍廠廢水處理系統，其特征在于：所述反應池分前后兩格，前后兩格用底部開口的隔板隔開。

　　3.按照權利要求1所述的一種小型電鍍廠廢水處理系統，其特征在于：所述反應池內還設置混合設備。

　　4.按照權利要求1所述的一種小型電鍍廠廢水處理系統，其特征在于：所述斜板沉淀池為異向流斜板沉淀池。

　　5.按照權利要求1所述的一種小型電鍍廠廢水處理系統，其特征在于：所述斜板沉淀池內設置有集水槽。

　　6.按照權利要求1所述的一種小型電鍍廠廢水處理系統，其特征在于：所述砂濾器為石英砂單層濾料砂濾器。

　　7.按照權利要求1所述的一種小型電鍍廠廢水處理系統，其特征在于：所述清水池為方形池。

　　說明書

　　一種小型電鍍廠廢水處理系統

　　技術領域

　　本實用新型涉及廢水處理技術領域，尤其是涉及一種小型電鍍廠廢水處理系統。

　　背景技術

　　電鍍廢水的化學處理法是添加化學試劑后，通過化學反應改變廢水中污染物的物理和化學性質，使其能從廢水中取出并達到國家排放標準的處理方法。在電鍍廢水處理中常用的化學處理法有氧化(還原)處理法，中和處理法，凝聚沉淀法等，以及把幾種方法組合在一起使用的方法。化學法處理電鍍廢水在國內外均已得到廣泛的應用，并有較長的使用歷史。國內對化學處理法有較為成熟的設計和運行經驗。它具有操作方便，試劑來源廣，適用范圍廣，能承受大水量和高濃度負荷沖擊，效果穩定可靠等優點。缺點是對處理后產生大量污泥的綜合利用還存在一定的問題，因此化學處理法的發展受到了一定的限制，此外，如何提高處理后水的重復利用率和向閉路循環方向的發展，有待進一步開發和研究。

　　實用新型內容

　　本實用新型所要解決的技術問題在于針對上述現有技術中的不足，提供一種小型電鍍廠廢水處理系統，本實用新型結構簡單、工作穩定、成本較低、去污水效率高、處理后的污水可重復利用，便于推廣使用。

　　為解決上述技術問題，本實用新型采用的技術方案是：一種小型電鍍廠廢水處理系統，其特征在于：包括調節池、反應池、斜板沉淀池、中間水池、濃縮池和清水池，所述調節池、反應池、斜板沉淀池、中間水池依次相連，所述斜板沉淀池輸出端還與濃縮池連接，所述中間水池通過砂濾器與清水池連接，所述濃縮池還與板框壓濾模塊連接，所述濃縮池、板框壓濾模塊與調節池連接。

　　上述的一種小型電鍍廠廢水處理系統，其特征在于：所述反應池內進行還原反應和絮凝反應，在流程上分前后兩格，前一格進行六價鉻的還原反應，后一格進行氫氧化物的沉淀生成反應，前后兩格用底部開口的隔板隔開，反應過程進行機械攪拌。

　　上述的一種小型電鍍廠廢水處理系統，其特征在于：所述反應池內還設置混合設備。

　　上述的一種小型電鍍廠廢水處理系統，其特征在于：所述斜板沉淀池為異向流斜板沉淀池。

　　上述的一種小型電鍍廠廢水處理系統，其特征在于：所述斜板沉淀池內設置有集水槽。

　　上述的一種小型電鍍廠廢水處理系統，其特征在于：所述砂濾器為石英砂單層濾料砂濾器。

　　上述的一種小型電鍍廠廢水處理系統，其特征在于：所述清水池為方形池。

　　本實用新型與現有技術相比具有以下優點：

　　本實用新型結構簡單、工作穩定、成本較低、去污水效率高、處理后的污水可重復利用，便于推廣使用。

　　下面通過附圖和實施例，對本實用新型的技術方案做進一步的詳細描述。