金屬膜及介質膜干法刻蝕系統-公開招標公告
金屬膜及介質膜干法刻蝕系統項目已具備招標條件。招標項目資金已落實。中科信工程咨詢(北京)有限責任公司(招標代理機構)受中國航空工業集團公司西安飛行自動控制研究所(招標人)的委托,對該項目進行國際公開招標采購。
1. 招標范圍
1.1 貨物名稱:金屬膜及介質膜干法刻蝕系統
1.2 招標編號:0779-25400341A051
1.3項目概況:
本次金屬及介質膜干法刻蝕系統設備招標采購旨采滿足科研生產需求,其包含全自動綜合反應離子刻蝕機1臺和金屬膜干法刻蝕機1臺,其中全自動綜合反應離子刻蝕機包含SiO2工藝腔和LN工藝腔各1個,金屬膜干法刻蝕機包含金屬工藝腔1個、去膠工藝腔1個。更多指標詳見第八章技術規格。
金屬及介質膜干法刻蝕系統主要技術指標如下:
SiO2工藝腔:刻蝕速率≥200nm/min(SiO2);選擇比≥1.5(SiO2:PR);側壁傾角≥80°(要求PR側壁傾角≥80°);片內均勻性≤3%;深寬比≥3:1(SiO2,2um線寬); LN工藝腔:刻蝕速率≥50nm/min;選擇比≥0.5(LN:PR);側壁傾角≥75°(要求PR側壁傾角≥80°);片內均勻性≤5%; 金屬工藝腔:刻蝕速率≥400nm/min(Al);選擇比≥2(Al:PR);側壁傾角≥80°;片內均勻性≤5%; 去膠腔:去膠速率≥500nm/min;片內均勻性≤10%;片間均勻性≤3%; 1.4 數量:1套。
1.5 交貨期:合同簽訂后8個月內到貨。